Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - Chemické prvky leštěné oxidovou vrstvu pro použití v elektronice
Publikující smluvní strana
Název subjektu:Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Adresa:Na Slovance 1999/2, 18200 Praha 8, CZ
Útvar / Odbor:
Informace o zápisu
ID smlouvy:26654163
ID verze:28518467
Číslo verze:1
Zveřejnění:29.04.2024 12:58:35
Zveřejňující:Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Datová schránka:nm9ns84
Smlouva
Předmět smlouvy:Chemické prvky leštěné oxidovou vrstvu pro použití v elektronice
Datum uzavření:25.03.2024
První zveřejnění:29.04.2024
Číslo smlouvy / č.j.:OBV_0024210227
Podepisující osoba:
Hodnota bez DPH:
Hodnota vč. DPH:
V cizí měně:17 802,00 EUR
Smluvní strany
Název:Wafer Technology Ltd.
IČO:
Datová schránka:
Adresa:34 Maryland Rd, Tongwell , MK15 8HJ MILTON KEYNES, GBR
Útvar / Odbor:
Plátce / příjemce:Příjemce
Verze záznamu
Verze smlouvy:
1
Datum publikace:
29.04.2024
Soubory
Přílohy smlouvy:
objednavka2524210227.pdf(2.09 MB, 29.04.2024 12:59:38)