Podrobné vyhledávání
1) Vyhledávání podle označeného pole nemusí poskytnout úplné výsledky, protože jeho vyplnění není při zveřejňování smlouvy povinné.
2) Přiložené dokumenty, které byly zveřejněny bez textové vrstvy, nebudou prohledány.
Vyhledané smlouvy na základě kritérií
Počet nalezných záznámů 41
Publikující smluvní strana ▲ ▼ | Předmět smlouvy ▲ ▼ | Poslední verze ▲ ▼ | Publikováno ▲ ▼ | Hodnota smlouvy ▲ ▼ | Smluvní strana(y) ▲ ▼ | |
---|---|---|---|---|---|---|
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | Využití výsledků výzkumu vytvořených v rámci realizace projektu TA ČR č. TM01000039 "Minimal Fab design systému depozice po atomárních vrstvách" | ano | 25.03.2023 | Neuvedeno | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | Ventily a plynové koncovky | ano | 18.09.2020 | 200 048 CZK s DPH | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ | úprava práv a přístupů k výsledkům dosaženým při řešení projektu TAČR EPSILON 2 TH02020926 (Apollo 27572)_Dodatek č.1/2020 | ano | 29.10.2020 | Neuvedeno | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ | úprava práv a přístupů k výsledkům dosaženým při řešení projektu TAČR EPSILON 2 TH02020926 (Apollo 27572) | ano | 04.02.2020 | Neuvedeno | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | Úprava potrubních rozvodů | ano | 28.11.2017 | 87 956 CZK bez DPH | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | Stanovení uznaných nákladů a účelové podpory na řešení části projektu TA ČR č. TM01000039 připadajících na partnera v roce 2021 | ano | 24.03.2021 | 2 250 000 CZK bez DPH | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | Stanovení uznaných nákladů a účelové podpory na řešení části projektu TA ČR č. TM01000039 připadajících na partnera v roce 2020 | ano | 15.04.2020 | 2 500 000 CZK bez DPH | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | stanovení podminek pro realizaci části projektu TAČR č. TF03000025 "Výzkum a vývoj nového plazma aktivovaného ALD depozičního systému s unikátním zdrojem nízkoteplotního plazmatu na bázi mikrovlnného surfatronu a ECWR výboje" | ano | 23.02.2017 | 7 000 000 CZK bez DPH | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | stanovení podmínek pro realizaci části projektu TA ČR č. TM01000039 "Minimal Fab design systému depozice po atomárních vrstvách" | ano | 17.02.2020 | Neuvedeno | SVCS Process Innovation s.r.o. | Detail |
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. | Specifikce rozdělení podpory na rok 2022 z důvodu rozpočtového provizoria a poskytnutí první její části partnerovi v rámci řešení projektu TA ČR č. TM01000039 | ano | 30.04.2022 | Neuvedeno | SVCS Process Innovation s.r.o., | Detail |